JPH0627948Y2 - 高周波グロー放電装置の電極構造 - Google Patents
高周波グロー放電装置の電極構造Info
- Publication number
- JPH0627948Y2 JPH0627948Y2 JP5921288U JP5921288U JPH0627948Y2 JP H0627948 Y2 JPH0627948 Y2 JP H0627948Y2 JP 5921288 U JP5921288 U JP 5921288U JP 5921288 U JP5921288 U JP 5921288U JP H0627948 Y2 JPH0627948 Y2 JP H0627948Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- glow discharge
- divided frame
- divided
- discharge device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5921288U JPH0627948Y2 (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 高周波グロー放電装置の電極構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5921288U JPH0627948Y2 (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 高周波グロー放電装置の電極構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01163328U JPH01163328U (en]) | 1989-11-14 |
JPH0627948Y2 true JPH0627948Y2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=31284995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5921288U Expired - Lifetime JPH0627948Y2 (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 高周波グロー放電装置の電極構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0627948Y2 (en]) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4541114B2 (ja) * | 2004-07-06 | 2010-09-08 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1988
- 1988-04-30 JP JP5921288U patent/JPH0627948Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01163328U (en]) | 1989-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI403617B (zh) | 在一基板上用於溫度之空間及時間控制之裝置 | |
CN101325169A (zh) | 载置台和使用该载置台的等离子体处理装置 | |
JPH05121333A (ja) | プラズマ処理装置 | |
CN114088282B (zh) | 压力传感器 | |
JPH0627948Y2 (ja) | 高周波グロー放電装置の電極構造 | |
US9281649B2 (en) | Air-cooled gas lasers with heat transfer assembly and associated systems and methods | |
JPH0222326B2 (en]) | ||
TW202205349A (zh) | 用於減少寄生電漿的rf回程路徑 | |
TWI479540B (zh) | 基板處理裝置 | |
JP5885939B2 (ja) | シールド部材及びシールド部材を備えた基板載置台 | |
JP3155844B2 (ja) | 真空処理装置の高周波電極 | |
JPH076853A (ja) | ギャップ放電素子及びその製造方法 | |
JP2019173128A (ja) | 真空処理装置 | |
JP3151364U (ja) | プラズマ化学気相堆積装置 | |
JP2573131Y2 (ja) | 真空成膜装置 | |
KR20030044499A (ko) | 정전척 및 이의 제조방법 | |
JP3006029B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
JPS5866828A (ja) | 焦電体チツプ及びその製造方法 | |
JPH11281667A (ja) | 静電容量型センサ | |
JP2001217304A (ja) | 基板ステージ、それを用いた基板処理装置および基板処理方法 | |
JP3092884B2 (ja) | 真空処理装置 | |
US20020043526A1 (en) | System and method for efficiently implementing a thermal processing chamber | |
JPH0650734B2 (ja) | 非晶質シリコン太陽電池の薄膜製造装置 | |
JP2001010847A (ja) | 陽極接合方法 | |
JPH09257833A (ja) | エレクトレット応用装置及びその製造方法 |